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    • CleanMill氩离子研磨系统

      CleanMill氩离子研磨系统为电池样品SEM表征提供高质量的制样方案,传统的机械研磨方式制备样品断面,断面不可避免的存在机械损伤和磨料嵌入样品引起的污染。使用氩离子束切割样品制备,可以制备出没有机械损伤和表面污染的平整断面,非常适用于 制备电池材料和部件的断面样品,从而进行扫 描电子显微镜结构表征分析。

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      更新日期:2023-03-20
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    • XTrace-基于SEM高性能微区荧光光谱仪

      XTrace-基于SEM高性能微区荧光光谱仪采用了X射线毛细导管技术,利用该技术,即使在非常小的样品区域也能产生很高的荧光强度。X射线毛细导管将X射线源的大部分射线收集,并将其聚焦成直径35微米的一个X射线点。

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      更新日期:2023-03-20
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    • 精密刻蚀镀膜系统PECS II 685

      精密刻蚀镀膜系统PECS II 685,一款桌面型宽束氩离子抛光及镀膜设备。对于同一个样品,可在同一真空环境下完成抛光及镀膜。

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      更新日期:2023-03-20
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    • ChromaCL2第二代实时彩色阴极发光成像系统

      ChromaCL2第二代实时彩色阴极发光成像系统,是一款*的产品。它具有高效的光学采集和色散能力,采用阵列光电倍增管得到高增益光探测能力。通过DigitalMicrograph软件实时地将光子脉冲信号混合成实时彩色阴极发光图像。

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      更新日期:2023-03-20
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    • Gatan原位加热台Murano 525

      Gatan原位加热台Murano 525,精悍紧凑,能方便地与大多数扫描电镜的标准样品台接口,它包含一个绝热接口,适用于二次电子像、电子背散射衍射(EBSD)与聚焦离子束(FIB)加工。能够对大至9mm x 4.5mm x 1.5mm大小的样品进行快速加热。

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      更新日期:2023-03-20
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    • MICROTEST 2000E系列原位动态拉伸试验台

      MICROTEST 2000E系列原位动态拉伸试验台,可以对金属样品施加高达2000N的拉力,用户EBSD分析,或者对一些其他材料进行常规的应力-应变分析和SEM成像。试样夹具70度角度倾斜,为EBSD分析提供了的设置。

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      更新日期:2023-03-20
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